我国深紫外激光PEEM系统在石墨烯研究中
电工电气2019年10月14日
近日,大连化学物理研究所纳米与界面催化研究组(502组)金立、傅强和包信和等研究人员与中科院金属所成会明研究员领导的研究小组合作,利用本组新近研制的深紫外激光光电子发射显微镜(DUV-PEEM)系统对单层石墨烯生长过程和结构进行了研究,并成功发现,在Pt表面上利用化学气相沉积法(CVD)生长得到的毫米大小的单层石墨烯中,具有凹角边界的石墨烯片层为多晶结构,存在不同的晶格取向,而只有凸角边界的石墨烯片层则具有完美的单晶结构。该方法作为一个重要的判据,确证了利用CVD方法能得到大面积、单层、单晶石墨烯。该成果近日发表在《自然-通讯》Nature Communications上(mun. :699doi:10.10 8/ncomms1702(2012) )。
我所深紫外激光光发射电子显微镜(PEEM)研制是国家重大科研装备研制项目(“深紫外全固态激光源重大科研装备研制”)资助下获得的重要成果,在世界上首次利用深紫外激光作为激发光源,成功获得高空间分辨PEEM图像(分辨率
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